반도체 MEMS 금속 도금공정에 응용되는 장비로 Wafer, Ceramic등의 기판에 Au, Cu, Mi, Rh, NiCo 등의 다양한 금속도금이 가능한 전해 도금 장치로 표면처리 공정, 수세공정, 도금공정 등의 연속 공정이 가능하며 자동화된 도금 시스템으로 고품질의 반도체 제조를 주문자의 요구사항과 공간 및 예산을 반영하여 제작 공급합니다.

화학약품의 부식작용을 이용하여 Wafer, Glass, Ceramic, Metal Film등 다양한 기판에 특정 물질을 제거하는 목적으로 사용하며 반도체 생산 공정중 식각공정, 현상공정, 박리공정, 세정공정 등에 응용이 가능한 장비로 주문자의 요구사항과 공간 및 예산을 반영하여 제작 공급합니다

반도체 노광공정에 사용되는 Glass Photo Mask를 세정하는 소형 Mask용 장비로 화학약품으로 Mask 표면의 오염된 물질을 제거하는 식각공정, 브러쉬 세정공정, 순수 세정공정 및 건조 등의 연속적인 공정이 자동으로 진행되며 주문자의 요구사항과 공간, 예산등을 반영하여 제작 공급합니다.

반도체의 미세회로를 형상화한 노광공정용 부품인 Glass Photo Mask를 세정하는 중형 Mask용 장비로 화학약품으로 Mask 표면의 오염된 물질을 제거하는 식각공정, 브러쉬 세정공정, 순수 세정공정 및 건조 등의 연속적인 공정이 자동화된 세정 시스템으로 고품질의 Mask 세정을 제공하며 주문자의 요구사항과 공간, 예산등을 반영하여 제작 공급합니다.

반도체 식각공정에 응용되는 장비로 Wafer, Glass, Ceramic등의 다양한 기판을 화학약품과 서보모터를 이용하여 금속 식각공정, PR 현상공정 및 박리공정 등에 적용이 가능하며 세정공정, 건조공정 등의 연속적인 공정이 가능하며 주문자의 요구사항과 공간 예산을 반영하여 제작 공급합니다.

반도체 금속 식각공정, PR 현상 및 박리공정 등에 사용되는 장비로 Wafer, Glass, Ceramic등의 다양한 기판을 화학약품과 서보모터를 이용하여 선택적 물질을 제거하는데 응용되며 식각공정, 세정공정 등의 연속적인 공정이 가능하며 주문자의 요구사항과 공간, 예산을 반영하여 제작 공급합니다

전해도금 특허기술을 적용한 반도체 MEMS 공정에 응용되는 새로운 방식의 회전식 도금장치로 수세공정, 진공 탈포공정, 표면 처리공정등의 기능을 추가하여 주문자의 요구사항과 공간, 예상을 반영하여 제작 공급합니다

반도체 기술의 초소형화, 고용량화, 고집적화에 따라 새로운 도금 기술을 적용한 전해 도금장치로 Wafer, Ceramic등의 기판에 Au, Cu, Mi, Rh, NiCo 등의 금속도금이 가능하며 표면처리, 수세, 도금공정이 가능하도록 구성하고 주문자의 요구사항과 공간, 예산을 반영하여 제작 공급합니다.

웨이퍼 표면에 감광성 물질인 포토레지스트를 균일하게 도포하기 위한 장비로 Wafer, Glass등의 기판을 서보모터로 회전시켜 균일한 두께로 도포하는 장비로 주문자의 요구사항과 공간. 예산을 반영하여 제작 공급합니다.

반도체 공정 작업시 발생하는 다양한 화학약품 유해가스를 액체 또는 특수 화학약품으로 흡착하여 유해가스를 제거하고 대기중 배출시 발생되는 환경 오염물질을 줄이고 안전한 작업 환경을 유지하는 중요한 장치입니다 소형화된 장비의 크기로 클린룸 내부공간에 설치 가능하며 주문자의 요청에 따라 주문제작이 가능합니다.

반도체 공정에 사용되는 화학약품을 클린룸 환경에서 안전하게 보관할 수 있는 장치로 설치공간에 이동이 자유롭고 내부가 보이도록 투명창으로 설계하고 환기구, 선반턱을 적용하여 주변 환경안전에 안전하게 화학약품 보관이 가능합니다. 주문자의 요청에 따라 주문제작이 가능합니다.